金實力公司解析研磨抛光中常見抛光皮的種類
2017-11-21 11:33:25   来源:   评论:0 點擊:

在實際研磨抛光過程中,研磨抛光主要講的是化學機械抛光。

  金實力公司解析研磨抛光中常見抛光皮的種類,在實際研磨抛光過程中,研磨抛光主要讲的是化学机械抛光。CMP 是化学的和机械的综合作用,在一定压力及抛光浆料存在下,在抛光液中的腐蚀介质作用下工件表面形成一层软化层,抛光液中的磨粒对工件上的软化层进行磨削,因而在被研磨的工件表面形成光洁表面。
研磨抛光作用的機理:
 抛光液中的腐蝕介質與被抛光表面材料發生了化學反應,
從而露出新的表面,接著又繼續反應生成新的反應膜,如此周而複始的進行,使表面逐漸被抛光修平,實現抛光的目的。

 抛光皮的分類:

  根據抛光皮磨料填充、材質、表面結構情況,共分爲三大類

  按磨料填充分爲:無填充磨料和有填充磨料抛光皮

  無填充磨料的抛光皮,在抛光過程中的相比較抛光工件光圈穩定。

  有填充磨料的抛光皮:含氧化铈抛光皮和含氧化锆抛光皮

  氧化铈抛光皮:較能提高抛光速率

  氧化锆抛光皮:較能提高被抛光工件的光潔度
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